针对电子半导体、精细化工、科研院所、表面处理行业，采用"双级反渗透+EDI+抛光混床+紫外降解+超滤终端"工艺，将水中离子、有机物、微粒、微生物全部去除至痕量级别。
预处理段：石英砂过滤+活性炭过滤+5μm精密过滤器，去除悬浮物、余氯、胶体；脱盐段：双级反渗透+EDI模块，脱盐率≥99.9%；精处理段：抛光混床树脂+185nm紫外灯+0.1μm终端过滤器；分配段：316L不锈钢循环管路+恒压变频供水，用水点不出水时管路内水循环，避免死角。
12英寸晶圆清洗、芯片封装测试用水，控制金属离子与颗粒。
高端化学试剂、电子级化学品配制用水。
HPLC、ICP-MS、GC-MS分析前处理一级用水。
光学镜片、镀膜玻璃、金属件超声波清洗用水。
